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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Strain relaxation in SiGe layer during wet oxidation process

    Beteiligte:

    Zhang, Y. (Autor:in) / Cai, K. (Autor:in) / Li, C. (Autor:in) / Chen, S. (Autor:in) / Lai, H. (Autor:in) / Kang, J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 3701-3705

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2009

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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