Effect of strain relaxation of oxidation-treated SiGe epitaxial thin films and its nanomechanical characteristics: Fid-Bau Portal

Effect of strain relaxation of oxidation-treated SiGe epitaxial thin films and its nanomechanical characteristics

He, B. C. / Wen, H. C. / Chinag, T. Y. / Chang, Z. C. / Lian, D. / Yau, W. H. / Wu, W. F. / Chou, C. P.

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Titel:

Effect of strain relaxation of oxidation-treated SiGe epitaxial thin films and its nanomechanical characteristics

Beteiligte:

He, B. C. (Autor:in) / Wen, H. C. (Autor:in) / Chinag, T. Y. (Autor:in) / Chang, Z. C. (Autor:in) / Lian, D. (Autor:in) / Yau, W. H. (Autor:in) / Wu, W. F. (Autor:in) / Chou, C. P. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 256 ; 3299-3302

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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