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Isotropic Etching of SiC

Stauden, T. / Niebelschutz, F. / Tonisch, K. / Cimalla, V. / Ecke, G. / Haupt, C. / Pezoldt, J.

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Titel:

Isotropic Etching of SiC

Beteiligte:

Stauden, T. (Autor:in) / Niebelschutz, F. (Autor:in) / Tonisch, K. (Autor:in) / Cimalla, V. (Autor:in) / Ecke, G. (Autor:in) / Haupt, C. (Autor:in) / Pezoldt, J. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 600/603 ; 651-654

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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