On ultra-thin oxide/Si and very-thin oxide/Si structures prepared by wet chemical process: Fid-Bau Portal

On ultra-thin oxide/Si and very-thin oxide/Si structures prepared by wet chemical process

Pincik, E. / Kobayashi, H. / Rusnak, J. / Kim, W. B. / Brunner, R. / Malinovsky, L. / Matsumoto, T. / Imamura, K. / Jergel, M. / Takahashi, M.

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Pincik, E. / Kobayashi, H. / Rusnak, J. / Kim, W. B. / Brunner, R. / Malinovsky, L. / Matsumoto, T. / Imamura, K. / Jergel, M. / Takahashi, M.

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Titel:

On ultra-thin oxide/Si and very-thin oxide/Si structures prepared by wet chemical process

Beteiligte:

Pincik, E. (Autor:in) / Kobayashi, H. (Autor:in) / Rusnak, J. (Autor:in) / Kim, W. B. (Autor:in) / Brunner, R. (Autor:in) / Malinovsky, L. (Autor:in) / Matsumoto, T. (Autor:in) / Imamura, K. (Autor:in) / Jergel, M. (Autor:in) / Takahashi, M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 256 ; 5757-5764

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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