High-Speed Spatial Atomic-Layer Deposition of Aluminum Oxide Layers for Solar Cell Passivation: Fid-Bau Portal

High-Speed Spatial Atomic-Layer Deposition of Aluminum Oxide Layers for Solar Cell Passivation

Poodt, P. / Lankhorst, A. / Roozeboom, F. / Spee, K. / Maas, D. / Vermeer, A.

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Titel:

High-Speed Spatial Atomic-Layer Deposition of Aluminum Oxide Layers for Solar Cell Passivation

Beteiligte:

Poodt, P. (Autor:in) / Lankhorst, A. (Autor:in) / Roozeboom, F. (Autor:in) / Spee, K. (Autor:in) / Maas, D. (Autor:in) / Vermeer, A. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 22 ; 3564-3567

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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