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    Titel:

    Silicon surface passivation using thin HfO2 films by atomic layer deposition

    Beteiligte:

    Gope, J. (Autor:in) / Batra, N. (Autor:in) / Panigrahi, J. (Autor:in) / Singh, R. (Autor:in) / Maurya, K. K. (Autor:in) / Srivastava, R. (Autor:in) / Singh, P. K. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 357 ; 635-642

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2015

    Format / Umfang:

    8 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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