Fabrication of Damage-Free Curved Silicon Crystal Substrate for a Focusing X-Ray Spectrometer by Plasma Chemical Vaporization Machining: Fid-Bau Portal

Fabrication of Damage-Free Curved Silicon Crystal Substrate for a Focusing X-Ray Spectrometer by Plasma Chemical Vaporization Machining

Hosoda, M. / Ueda, K. / Nagano, M. / Zettsu, N. / Shimada, S. / Taniguchi, K. / Yamamura, K.

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Titel:

Fabrication of Damage-Free Curved Silicon Crystal Substrate for a Focusing X-Ray Spectrometer by Plasma Chemical Vaporization Machining

Beteiligte:

Hosoda, M. (Autor:in) / Ueda, K. (Autor:in) / Nagano, M. (Autor:in) / Zettsu, N. (Autor:in) / Shimada, S. (Autor:in) / Taniguchi, K. (Autor:in) / Yamamura, K. (Autor:in) / Zhao, J. / Kunieda, M. / Yang, G.

Erschienen in:

Advances in Precision Engineering ; 213-217

KEY ENGINEERING MATERIALS ; 447/448

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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