Structural Characterisation of Er Implanted, Ge-Rich SiO~2 Layers Using Slow Positron Implantation Spectroscopy: Fid-Bau Portal

Structural Characterisation of Er Implanted, Ge-Rich SiO~2 Layers Using Slow Positron Implantation Spectroscopy

Anwand, W. / Kanjilal, A. / Brauer, G. / Wagner, A. / Butterling, M. / Cowan, T.E. / Rebohle, L. / Skorupa, W.

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Anwand, W. / Kanjilal, A. / Brauer, G. / Wagner, A. / Butterling, M. / Cowan, T.E. / Rebohle, L. / Skorupa, W.

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Titel:

Structural Characterisation of Er Implanted, Ge-Rich SiO~2 Layers Using Slow Positron Implantation Spectroscopy

Beteiligte:

Anwand, W. (Autor:in) / Kanjilal, A. (Autor:in) / Brauer, G. (Autor:in) / Wagner, A. (Autor:in) / Butterling, M. (Autor:in) / Cowan, T.E. (Autor:in) / Rebohle, L. (Autor:in) / Skorupa, W. (Autor:in) / Zaleski, R.

Erschienen in:

Progress in Positron Annihilation ; 41-45

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 666

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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