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Microstructural evolution upon annealing in Ar-implanted Si

Li, B. S. / Zhang, C. H. / Yang, Y. T. / Zhang, L. Q. / Xu, C. L.

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Titel:

Microstructural evolution upon annealing in Ar-implanted Si

Beteiligte:

Li, B. S. (Autor:in) / Zhang, C. H. (Autor:in) / Yang, Y. T. (Autor:in) / Zhang, L. Q. (Autor:in) / Xu, C. L. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 9183-9187

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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