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    Titel:

    Influence of substrate on the growth of microcrystalline silicon thin films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

    Beteiligte:

    Qi, L. (Autor:in) / Hu, Z. (Autor:in) / Li, W. (Autor:in) / Qin, X. (Autor:in) / Du, G. (Autor:in) / Han, W. (Autor:in) / Shi, W. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 15 ; 412-420

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2012

    Format / Umfang:

    9 pages

    ISSN:

    1369-8001

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.38152

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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