Enthalpy based modeling of pulsed excimer laser annealing for process simulation: Fid-Bau Portal

Enthalpy based modeling of pulsed excimer laser annealing for process simulation

Hackenberg, M. / Pichler, P. / Huet, K. / Negru, R. / Venturini, J. / Pakfar, A. / Tavernier, C. / La Magna, A.

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Titel:

Enthalpy based modeling of pulsed excimer laser annealing for process simulation

Beteiligte:

Hackenberg, M. (Autor:in) / Pichler, P. (Autor:in) / Huet, K. (Autor:in) / Negru, R. (Autor:in) / Venturini, J. (Autor:in) / Pakfar, A. (Autor:in) / Tavernier, C. (Autor:in) / La Magna, A. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 258 ; 9347-9351

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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