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    Titel:

    Effect of the post-deposition annealing on electrical characteristics of MIS structures with HfO2/SiO2 gate dielectric stacks

    Beteiligte:

    Taube, A. (Autor:in) / Mroczynski, R. (Autor:in) / Korwin-Mikke, K. (Autor:in) / Gieraltowska, S. (Autor:in) / Szmidt, J. (Autor:in) / Piotrowska, A. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B ADVANCED FUNCTIONAL SOLID STATE MATERIALS ; 177 ; 1281-1285

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2012

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0921-5107

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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