Low temperature SiNx:H films deposited by inductively coupled plasma for solar cell applications: Fid-Bau Portal

Low temperature SiNx:H films deposited by inductively coupled plasma for solar cell applications

Zhou, H. P. / Wei, D. Y. / Xu, L. X. / Guo, Y. N. / Xiao, S. Q. / Huang, S. Y. / Xu, S.

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Titel:

Low temperature SiNx:H films deposited by inductively coupled plasma for solar cell applications

Beteiligte:

Zhou, H. P. (Autor:in) / Wei, D. Y. (Autor:in) / Xu, L. X. (Autor:in) / Guo, Y. N. (Autor:in) / Xiao, S. Q. (Autor:in) / Huang, S. Y. (Autor:in) / Xu, S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 264 ; 21-26

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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