Effects of Substrate Temperature on the Properties of Silicon Nitride Films by PECVD: Fid-Bau Portal

Effects of Substrate Temperature on the Properties of Silicon Nitride Films by PECVD

Li, C.Y. / Li, X.F. / Chen, L.L. / Shi, J.F. / Zhang, J.H.

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Titel:

Effects of Substrate Temperature on the Properties of Silicon Nitride Films by PECVD

Beteiligte:

Li, C.Y. (Autor:in) / Li, X.F. (Autor:in) / Chen, L.L. (Autor:in) / Shi, J.F. (Autor:in) / Zhang, J.H. (Autor:in) / Zhang, C. / Chen, N. / Hu, J.

Erschienen in:

Inorganic Thin Films and Coatings ; 12-15

KEY ENGINEERING MATERIALS ; 537

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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