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Nanocrystalline silicon thin films prepared by low pressure planar inductively coupled plasma

Raha, D. / Das, D.

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Titel:

Nanocrystalline silicon thin films prepared by low pressure planar inductively coupled plasma

Beteiligte:

Raha, D. (Autor:in) / Das, D. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 276 ; 249-257

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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