Study on Deposition of Amorphous DLC-Si Films by RF-PECVD: Fid-Bau Portal

Study on Deposition of Amorphous DLC-Si Films by RF-PECVD

Tang, J.L. / Wang, J.

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Titel:

Study on Deposition of Amorphous DLC-Si Films by RF-PECVD

Beteiligte:

Tang, J.L. (Autor:in) / Wang, J. (Autor:in) / Fu, Y.

Erschienen in:

Advances in Optics Manufacture ; 244-247

KEY ENGINEERING MATERIALS ; 552

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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