Scaling of HfO2 dielectric on CVD graphene: Fid-Bau Portal

Scaling of HfO2 dielectric on CVD graphene

McDonnell, S. / Azcatl, A. / Mordi, G. / Floresca, C. / Pirkle, A. / Colombo, L. / Kim, J. / Kim, M. / Wallace, R. M.

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Titel:

Scaling of HfO2 dielectric on CVD graphene

Beteiligte:

McDonnell, S. (Autor:in) / Azcatl, A. (Autor:in) / Mordi, G. (Autor:in) / Floresca, C. (Autor:in) / Pirkle, A. (Autor:in) / Colombo, L. (Autor:in) / Kim, J. (Autor:in) / Kim, M. (Autor:in) / Wallace, R. M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 294 ; 95-99

Erscheinungsdatum:

01.01.2014

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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