Low voltage stress-induced leakage current in HfO2 dielectric films: Fid-Bau Portal

Low voltage stress-induced leakage current in HfO2 dielectric films

Tan, T. / Liu, Z. / Tian, H. / Liu, W.

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Titel:

Low voltage stress-induced leakage current in HfO2 dielectric films

Beteiligte:

Tan, T. (Autor:in) / Liu, Z. (Autor:in) / Tian, H. (Autor:in) / Liu, W. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B ADVANCED FUNCTIONAL SOLID STATE MATERIALS ; 171 ; 159-161

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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