Microstructure and electrochemical properties of nitrogen-doped DLC films deposited by PECVD technique: Fid-Bau Portal

Microstructure and electrochemical properties of nitrogen-doped DLC films deposited by PECVD technique

Zhou, K. / Ke, P. / Li, X. / Zou, Y. / Wang, A.

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Titel:

Microstructure and electrochemical properties of nitrogen-doped DLC films deposited by PECVD technique

Beteiligte:

Zhou, K. (Autor:in) / Ke, P. (Autor:in) / Li, X. (Autor:in) / Zou, Y. (Autor:in) / Wang, A. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 329 ; 281-286

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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