Barrier performance of ultrathin amorphous Nb–Ni film between copper and silicon: Fid-Bau Portal

Barrier performance of ultrathin amorphous Nb–Ni film between copper and silicon

Dai, X. H. / Zhang, L. / Feng, Z. D. / Li, X. H. / Guo, J. X. / Fu, Y. J. / Zhou, Y. / Zhao, Q. X. / Lou, J. Z. / Ma, L. X.

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Dai, X. H. / Zhang, L. / Feng, Z. D. / Li, X. H. / Guo, J. X. / Fu, Y. J. / Zhou, Y. / Zhao, Q. X. / Lou, J. Z. / Ma, L. X.

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Titel:

Barrier performance of ultrathin amorphous Nb–Ni film between copper and silicon

Beteiligte:

Dai, X. H. (Autor:in) / Zhang, L. (Autor:in) / Feng, Z. D. (Autor:in) / Li, X. H. (Autor:in) / Guo, J. X. (Autor:in) / Fu, Y. J. (Autor:in) / Zhou, Y. (Autor:in) / Zhao, Q. X. (Autor:in) / Lou, J. Z. (Autor:in) / Ma, L. X. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 159 ; 94-97

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1105 / 530

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