Leakage current characteristics of metal (Ag,TiN,W)-Hf:Ta2O5/SiOxNy

Leakage current characteristics of metal (Ag,TiN,W)-Hf:Ta2O5/SiOxNy–Si structures

Novkovski, N. / Atanassova, E.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Leakage current characteristics of metal (Ag,TiN,W)-Hf:Ta2O5/SiOxNy–Si structures

Novkovski, N. / Atanassova, E.

Leakage current characteristics of metal (Ag,TiN,W)-Hf:Ta2O5/SiOxNy–Si structures

Novkovski, N. / Atanassova, E.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Leakage current characteristics of metal (Ag,TiN,W)-Hf:Ta2O5/SiOxNy–Si structures

Beteiligte:

Novkovski, N. (Autor:in) / Atanassova, E. (Autor:in)

Erschienen in:

Materials science in semiconductor processing ; 29 ; 345-350

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

van Berkum, J. G. / Hopstaken, M. J. / Snijders, J. H. et al. | British Library Online Contents | 2003

Determination of interface states in metal(Ag,TiN,W)−Hf:Ta2O5/SiOxNy−Si structures by different compact methods

Novkovski, N. | British Library Online Contents | 2015

Formation of silicon on plasma synthesized SiOxNy and reaction mechanism

Zhu, M. / Shi, X. / Chen, P. et al. | British Library Online Contents | 2005

SIMS and high-resolution RBS analysis of ultrathin SiOxNy films

Kimura, K. / Nakajima, K. / Kobayashi, H. et al. | British Library Online Contents | 2003

Electrical behaviour of SiOxNy thin films and correlation with structural defects

Rebib, F. / Tomasella, E. / Aida, S. et al. | British Library Online Contents | 2006

Nach oben