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RF plasma treatment of shallow ion-implanted layers of germanium

Okholin, P.N. / Glotov, V.I. / Nazarov, A.N. / Yuchymchuk, V.O. / Kladko, V.P. / Kryvyi, S.B. / Lytvyn, P.M. / Tiagulskyi, S.I. / Lysenko, V.S. / Shayesteh, M. / ... [mehr]

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Titel:

RF plasma treatment of shallow ion-implanted layers of germanium

Beteiligte:

Okholin, P.N. (Autor:in) / Glotov, V.I. (Autor:in) / Nazarov, A.N. (Autor:in) / Yuchymchuk, V.O. (Autor:in) / Kladko, V.P. (Autor:in) / Kryvyi, S.B. (Autor:in) / Lytvyn, P.M. (Autor:in) / Tiagulskyi, S.I. (Autor:in) / Lysenko, V.S. (Autor:in) / Shayesteh, M. (Autor:in)

Erschienen in:

Materials science in semiconductor processing ; 42 ; 204-209

Erscheinungsdatum:

01.01.2016

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Print

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

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