Te implantation in Ge(001) for n-type doping applications: Fid-Bau Portal

Te implantation in Ge(001) for n-type doping applications

Perrin Toinin, J. / Portavoce, A. / Hoummada, K. / Texier, M. / Bertoglio, M. / Bernardini, S. / Chow, L.

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Titel:

Te implantation in Ge(001) for n-type doping applications

Beteiligte:

Perrin Toinin, J. (Autor:in) / Portavoce, A. (Autor:in) / Hoummada, K. (Autor:in) / Texier, M. (Autor:in) / Bertoglio, M. (Autor:in) / Bernardini, S. (Autor:in) / Chow, L. (Autor:in)

Erschienen in:

Materials science in semiconductor processing ; 42 ; 215-218

Erscheinungsdatum:

01.01.2016

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

1369-8001

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.38152

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