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S. A. Reible

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Titel:

Reactive Ion Etching in the Fabrication of Niobium Tunnel Junctions

Beteiligte:

S. A. Reible (Autor:in)

Erscheinungsdatum:

1980

Format / Umfang:

5 pages

Medientyp:

Report

Format:

Keine Angabe

Sprache:

Englisch

Schlagwörter:

Manufacturing Processes & Materials Handling , Semiconductor Devices , Niobium , Tunneling(Electronics) , Semiconductor junctions , Etching , Ions , Fabrication , Reprints , Ion etching

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