A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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OXIDE SPUTTERING TARGET MATERIAL
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an oxide sputtering target material capable of suppressing generation of a crack caused by heat treatment in a bonding work process or a sputtering process of the oxide sputtering target material.SOLUTION: In an oxide sputtering target material containing a metal component having a composition containing Sn as much as 20-50 atom%, and a residue comprising Zn and inevitable impurities, and having a bending breaking strain rate at 22°C-400°C of 0.24% or higher, and having a transverse rupture strength at 200°C of 130 MPa or more, a mean value of a relative density is preferably 98.5% or more, and more preferably, its dispersion is 0.3% or less.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】 酸化物スパッタリングターゲット材のボンディング作業工程やスパッタリング工程における熱扱いに起因する割れの発生を抑制できる酸化物スパッタリングターゲット材を提供する。【解決手段】 金属成分が、Ｓｎを２０〜５０原子％含有し、残部がＺｎおよび不可避的不純物からなる組成を有し、２２℃〜４００℃における曲げ破断歪率が０．２４％以上である、または、２００℃における抗折力が１３０ＭＰａ以上である酸化物スパッタリングターゲット材であり、相対密度の平均値は９８．５％以上であることが好ましく、そのばらつきは、０．３％以下であることがより好ましい。【選択図】 図１
OXIDE SPUTTERING TARGET MATERIAL
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an oxide sputtering target material capable of suppressing generation of a crack caused by heat treatment in a bonding work process or a sputtering process of the oxide sputtering target material.SOLUTION: In an oxide sputtering target material containing a metal component having a composition containing Sn as much as 20-50 atom%, and a residue comprising Zn and inevitable impurities, and having a bending breaking strain rate at 22°C-400°C of 0.24% or higher, and having a transverse rupture strength at 200°C of 130 MPa or more, a mean value of a relative density is preferably 98.5% or more, and more preferably, its dispersion is 0.3% or less.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】 酸化物スパッタリングターゲット材のボンディング作業工程やスパッタリング工程における熱扱いに起因する割れの発生を抑制できる酸化物スパッタリングターゲット材を提供する。【解決手段】 金属成分が、Ｓｎを２０〜５０原子％含有し、残部がＺｎおよび不可避的不純物からなる組成を有し、２２℃〜４００℃における曲げ破断歪率が０．２４％以上である、または、２００℃における抗折力が１３０ＭＰａ以上である酸化物スパッタリングターゲット材であり、相対密度の平均値は９８．５％以上であることが好ましく、そのばらつきは、０．３％以下であることがより好ましい。【選択図】 図１
OXIDE SPUTTERING TARGET MATERIAL
酸化物スパッタリングターゲット材
TAMADA YU (author) / SAITO KAZUYA (author) / KAMISAKA SHUJIRO (author) / KUMAGAI TOMOMASA (author)
2017-02-16
Patent
Electronic Resource
Japanese