A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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OXIDE SPUTTERING TARGET MATERIAL
The present invention provides an oxide sputtering target material, restraining generation of a crack caused by heat-handling in a bonding process or a sputtering process of the oxide sputtering target material. A metal component comprises: 20-50 at.% of stannum (Sn); and residual zinc (Zn) and unavoidable impurities. The oxide sputtering target material has at least 0.24% of bending fracture strain at 22-400 degrees, or at least 130 MPa of an anti-cutting force at 200 degrees. The oxide sputtering target material is preferred to have 98.5% of an average value of relative density, and is more preferred to have not more than 0.3% of a variation of the average value of the relative density.
산화물 스퍼터링 타깃재의 본딩 작업 공정이나 스퍼터링 공정에 있어서의 열취급에 기인하는 균열의 발생을 억제할 수 있는 산화물 스퍼터링 타깃재를 제공한다. 금속 성분이, Sn을 20∼50원자％ 함유하고, 잔부가 Zn 및 불가피적 불순물로 이루어지는 조성을 갖고, 22℃∼400℃에 있어서의 굽힘 파단 변형률이 0.24％ 이상이거나, 또는 200℃에 있어서의 항절력이 130㎫ 이상인 산화물 스퍼터링 타깃재이며, 상대 밀도의 평균값은 98.5％ 이상인 것이 바람직하고, 그 변동은 0.3％ 이하인 것이 더욱 바람직하다.
OXIDE SPUTTERING TARGET MATERIAL
The present invention provides an oxide sputtering target material, restraining generation of a crack caused by heat-handling in a bonding process or a sputtering process of the oxide sputtering target material. A metal component comprises: 20-50 at.% of stannum (Sn); and residual zinc (Zn) and unavoidable impurities. The oxide sputtering target material has at least 0.24% of bending fracture strain at 22-400 degrees, or at least 130 MPa of an anti-cutting force at 200 degrees. The oxide sputtering target material is preferred to have 98.5% of an average value of relative density, and is more preferred to have not more than 0.3% of a variation of the average value of the relative density.
산화물 스퍼터링 타깃재의 본딩 작업 공정이나 스퍼터링 공정에 있어서의 열취급에 기인하는 균열의 발생을 억제할 수 있는 산화물 스퍼터링 타깃재를 제공한다. 금속 성분이, Sn을 20∼50원자％ 함유하고, 잔부가 Zn 및 불가피적 불순물로 이루어지는 조성을 갖고, 22℃∼400℃에 있어서의 굽힘 파단 변형률이 0.24％ 이상이거나, 또는 200℃에 있어서의 항절력이 130㎫ 이상인 산화물 스퍼터링 타깃재이며, 상대 밀도의 평균값은 98.5％ 이상인 것이 바람직하고, 그 변동은 0.3％ 이하인 것이 더욱 바람직하다.
OXIDE SPUTTERING TARGET MATERIAL
산화물 스퍼터링 타깃재
TAMADA YUU (author) / SAITOH KAZUYA (author) / UESAKA SHUUJIROH (author) / KUMAGAI TOMOMASA (author)
2017-02-20
Patent
Electronic Resource
Korean