A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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OXIDE SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME, AND OXIDE THIN FILM
To provide an oxide sputtering target capable of depositing a film with a high work function.SOLUTION: An oxide sputtering target is composed of tungsten (W), molybdenum (Mo), and oxygen (O), the sputtering target having a relative density of 90% or more. The oxide sputtering target contains a molybdenum oxide, the molybdenum oxide preferably existing as MoO2. The sputtering target also contains a tungsten oxide, the tungsten oxide preferably existing as WO3.SELECTED DRAWING: None
【課題】仕事関数の高い膜を成膜することが可能な酸化物スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、及び、酸素（Ｏ）、からなる酸化物スパッタリングターゲットであって、相対密度が９０％以上であることを特徴とする酸化物スパッタリングターゲットである。酸化物スパッタリングターゲットは、モリブデンの酸化物を含有し、前記モリブデン酸化物はＭｏＯ２として存在していることが好ましい。また、タングステン酸化物を含有し、タングステン酸化物はＷＯ３として存在していることが好ましい。【選択図】なし
OXIDE SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME, AND OXIDE THIN FILM
To provide an oxide sputtering target capable of depositing a film with a high work function.SOLUTION: An oxide sputtering target is composed of tungsten (W), molybdenum (Mo), and oxygen (O), the sputtering target having a relative density of 90% or more. The oxide sputtering target contains a molybdenum oxide, the molybdenum oxide preferably existing as MoO2. The sputtering target also contains a tungsten oxide, the tungsten oxide preferably existing as WO3.SELECTED DRAWING: None
【課題】仕事関数の高い膜を成膜することが可能な酸化物スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、及び、酸素（Ｏ）、からなる酸化物スパッタリングターゲットであって、相対密度が９０％以上であることを特徴とする酸化物スパッタリングターゲットである。酸化物スパッタリングターゲットは、モリブデンの酸化物を含有し、前記モリブデン酸化物はＭｏＯ２として存在していることが好ましい。また、タングステン酸化物を含有し、タングステン酸化物はＷＯ３として存在していることが好ましい。【選択図】なし
OXIDE SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME, AND OXIDE THIN FILM
酸化物スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに酸化物薄膜
SOAN KEI (author) / NARA ATSUSHI (author)
2022-09-07
Patent
Electronic Resource
Japanese
European Patent Office | 2022
| European Patent Office | 2021
| European Patent Office | 2020
OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF OXIDE THIN FILM
| European Patent Office | 2019
| European Patent Office | 2017