A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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SINTERED COMPACT SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SINTERED COMPACT
(과제) 적절한 기계적 강도로 하면서, 벌크 저항을 유효하게 저감하고, 이상 방전의 발생을 억제할 수 있는 소결체, 스퍼터링 타깃 및 소결체의 제조 방법을 제공한다. (해결 수단) 본 발명의 소결체는, In, Ga 및 Zn 을 함유하는 산화물의 소결체로서, 0.317 ＜ In/(In ＋ Ga ＋ Zn) ≤ 0.350, 0.317 ＜ Ga/(In ＋ Ga ＋ Zn) ≤ 0.350, 및, 0.317 ＜ Zn/(In ＋ Ga ＋ Zn) ≤ 0.350 의 관계를 만족하고, 벌크 저항값이 15 mΩcm 이상이면서 또한 25 mΩcm 이하이고, 항절 강도가 40 ㎫ 이상이면서 또한 50 ㎫ 미만이다.
SINTERED COMPACT SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SINTERED COMPACT
(과제) 적절한 기계적 강도로 하면서, 벌크 저항을 유효하게 저감하고, 이상 방전의 발생을 억제할 수 있는 소결체, 스퍼터링 타깃 및 소결체의 제조 방법을 제공한다. (해결 수단) 본 발명의 소결체는, In, Ga 및 Zn 을 함유하는 산화물의 소결체로서, 0.317 ＜ In/(In ＋ Ga ＋ Zn) ≤ 0.350, 0.317 ＜ Ga/(In ＋ Ga ＋ Zn) ≤ 0.350, 및, 0.317 ＜ Zn/(In ＋ Ga ＋ Zn) ≤ 0.350 의 관계를 만족하고, 벌크 저항값이 15 mΩcm 이상이면서 또한 25 mΩcm 이하이고, 항절 강도가 40 ㎫ 이상이면서 또한 50 ㎫ 미만이다.
SINTERED COMPACT SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SINTERED COMPACT
소결체, 스퍼터링 타깃 및 소결체의 제조 방법
2021-02-22
Patent
Electronic Resource
Korean
SINTERED COMPACT SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SINTERED COMPACT
| European Patent Office | 2020
| European Patent Office | 2019
| European Patent Office | 2015
OXIDE SINTERED COMPACT, SPUTTERING TARGET, THIN FILM AND METHOD OF PRODUCING OXIDE SINTERED COMPACT
| European Patent Office | 2016
| European Patent Office | 2017