A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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ITIO ROTARY TARGET AND PREPARATION METHOD THEREFOR
An ITiO rotary target and a preparation method therefor. The preparation method comprises the following steps: uniformly mixing 90-99.5 parts by mass of In2O3 nano-powder, 0.5-10 parts by mass of TiO2 nano-powder, 0.5-5 parts by mass of a dispersing agent, 0.5-5 parts by mass of an adhesive, and water, and grinding same then to obtain slurry, wherein the specific surface area of the In2O3 nano-powder is 5 m2/g-20 m2/g, and the specific surface area of the TiO2 nano-powder is 20 m2/g-50 m2/g; performing spray granulation on the slurry to obtain ITiO powder; putting the ITiO powder into a mold, and molding by means of cold isostatic pressing to obtain a rotary target biscuit; and sintering and annealing the rotary target biscuit then to obtain the ITiO rotary target. The relative density of the ITiO rotary target is greater than or equal to 98%, and the resistivity of the ITiO rotary target is smaller than or equal to 4.0×10-4 Ω·cm.
Une cible rotative d'ITiO et un procédé de préparation associé. Le procédé de préparation comprend les étapes suivantes : le mélange homogène de 90 à 99,5 parties en masse d'une nano-poudre d'In2O3, de 0,5 à 10 parties en masse d'une nano-poudre de TiO2, de 0,5 à 5 parties en masse d'un agent de dispersion, de 0,5 à 5 parties en masse d'un adhésif, et de l'eau, et leur broyage pour ensuite obtenir une suspension épaisse, la surface spécifique de la nano-poudre d'In2O3 étant de 5 m2/g-20 m2/g, et la surface spécifique de la nano-poudre de TiO2 étant de is 20 m2/g-50 m2/g ; la réalisation d'une granulation par pulvérisation sur la suspension épaisse pour obtenir de la poudre d'ITiO ; l'introduction de la poudre d'ITiO dans un moule, et le moulage au moyen d'une compression isostatique à froid pour obtenir un biscuit cible rotatif ; et le frittage et le recuit du biscuit cible rotatif pour ensuite obtenir la cible rotative d'ITiO. La densité relative de la cible rotative d'ITiO est supérieure ou égale à 98 %, et la résistivité de la cible rotative d'ITiO est inférieure ou égale à 4,0×10-4 Ω·cm.
一种ITiO旋转靶材及其制备方法。该制备方法包括如下步骤：按照质量份数，将90份～99.5份的In 2O 3纳米粉体、0.5份～10份的TiO 2纳米粉体、0.5份～5份的分散剂、0.5份～5份的粘接剂与水混合均匀，研磨后得到浆料；其中，In 2O 3纳米粉体的比表面积为5m 2/g～20m 2/g，TiO 2纳米粉体的比表面积为20m 2/g～50m 2/g；将浆料进行喷雾造粒，得到ITiO粉体；将ITiO粉体装入模具中，使用冷等静压成型，得到旋转靶材素坯；以及将旋转靶材素坯进行烧结，退火之后得到ITiO旋转靶材。该ITiO旋转靶材的相对密度≥98％，电阻率≤4.0×10 -4Ω·cm。
ITIO ROTARY TARGET AND PREPARATION METHOD THEREFOR
An ITiO rotary target and a preparation method therefor. The preparation method comprises the following steps: uniformly mixing 90-99.5 parts by mass of In2O3 nano-powder, 0.5-10 parts by mass of TiO2 nano-powder, 0.5-5 parts by mass of a dispersing agent, 0.5-5 parts by mass of an adhesive, and water, and grinding same then to obtain slurry, wherein the specific surface area of the In2O3 nano-powder is 5 m2/g-20 m2/g, and the specific surface area of the TiO2 nano-powder is 20 m2/g-50 m2/g; performing spray granulation on the slurry to obtain ITiO powder; putting the ITiO powder into a mold, and molding by means of cold isostatic pressing to obtain a rotary target biscuit; and sintering and annealing the rotary target biscuit then to obtain the ITiO rotary target. The relative density of the ITiO rotary target is greater than or equal to 98%, and the resistivity of the ITiO rotary target is smaller than or equal to 4.0×10-4 Ω·cm.
Une cible rotative d'ITiO et un procédé de préparation associé. Le procédé de préparation comprend les étapes suivantes : le mélange homogène de 90 à 99,5 parties en masse d'une nano-poudre d'In2O3, de 0,5 à 10 parties en masse d'une nano-poudre de TiO2, de 0,5 à 5 parties en masse d'un agent de dispersion, de 0,5 à 5 parties en masse d'un adhésif, et de l'eau, et leur broyage pour ensuite obtenir une suspension épaisse, la surface spécifique de la nano-poudre d'In2O3 étant de 5 m2/g-20 m2/g, et la surface spécifique de la nano-poudre de TiO2 étant de is 20 m2/g-50 m2/g ; la réalisation d'une granulation par pulvérisation sur la suspension épaisse pour obtenir de la poudre d'ITiO ; l'introduction de la poudre d'ITiO dans un moule, et le moulage au moyen d'une compression isostatique à froid pour obtenir un biscuit cible rotatif ; et le frittage et le recuit du biscuit cible rotatif pour ensuite obtenir la cible rotative d'ITiO. La densité relative de la cible rotative d'ITiO est supérieure ou égale à 98 %, et la résistivité de la cible rotative d'ITiO est inférieure ou égale à 4,0×10-4 Ω·cm.
一种ITiO旋转靶材及其制备方法。该制备方法包括如下步骤：按照质量份数，将90份～99.5份的In 2O 3纳米粉体、0.5份～10份的TiO 2纳米粉体、0.5份～5份的分散剂、0.5份～5份的粘接剂与水混合均匀，研磨后得到浆料；其中，In 2O 3纳米粉体的比表面积为5m 2/g～20m 2/g，TiO 2纳米粉体的比表面积为20m 2/g～50m 2/g；将浆料进行喷雾造粒，得到ITiO粉体；将ITiO粉体装入模具中，使用冷等静压成型，得到旋转靶材素坯；以及将旋转靶材素坯进行烧结，退火之后得到ITiO旋转靶材。该ITiO旋转靶材的相对密度≥98％，电阻率≤4.0×10 -4Ω·cm。
ITIO ROTARY TARGET AND PREPARATION METHOD THEREFOR
CIBLE ROTATIVE D'ITIO ET PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ASSOCIÉ
ITiO旋转靶材及其制备方法
GAN ZHIJIAN (author) / ZHUANG ZHIJIE (author) / ZHUANG MENG (author) / ZHU BIN (author)
2021-09-02
Patent
Electronic Resource
Chinese
IPC:
C04B
Kalk
,
LIME
ITiO rotary target material and preparation method thereof
| European Patent Office | 2020
| European Patent Office | 2024
ROTARY ACTUATOR ASSEMBLY, HOUSEHOLD APPLIANCE AND CONTROL METHOD THEREFOR
| European Patent Office | 2021