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DYNAMIC SINTERING METHOD FOR NITRIDE CERAMIC SUBSTRATE
Provided in the present invention is a dynamic sintering method for a nitride ceramic substrate, which belongs to the technical field of ceramic materials. In the present invention, by means of the differences between a support block and a nitride ceramic substrate in the shrinkage starting temperature and the shrinkage rate, the shrinkage starting temperature of the support block is controlled to be lower than or higher than that of the nitride ceramic substrate, and the linear shrinkage rate thereof in a height direction is controlled to be higher than that of the nitride ceramic substrate, such that the dynamic process from non-contact to contact between a pressing plate and the substrate during the sintering process can be achieved; therefore, the deformation and cracking of the substrate during sintering are avoided.
La présente invention concerne un procédé de frittage dynamique pour substrat céramique au nitrure, qui appartient au domaine technique des matériaux céramiques. Dans la présente invention, au moyen des différences entre un bloc de support et un substrat céramique au nitrure dans la température de démarrage de retrait et le taux de retrait, la température de début de retrait du bloc de support est régulée pour être inférieure ou supérieure à celle du substrat céramique au nitrure, et le taux de retrait linéaire de celui-ci dans une direction de hauteur est régulé pour être supérieur à celui du substrat céramique au nitrure, de telle sorte que le processus dynamique de non-contact au contact entre une plaque de pression et le substrat pendant le processus de frittage peut être obtenu ; par conséquent, la déformation et le craquage du substrat pendant le frittage sont évités.
本发明提供了一种氮化物陶瓷基片的动态烧结方法，属于陶瓷材料技术领域。本发明通过利用支撑块和氮化物陶瓷基片开始收缩温度和收缩率的差异，控制支撑块开始收缩温度低于或高于氮化物陶瓷基片且高度方向线收缩率高于氮化物陶瓷基片，能够实现在烧结过程中压板和基片之间从非接触到接触的动态过程，从而避免基片烧结时的变形和开裂。
DYNAMIC SINTERING METHOD FOR NITRIDE CERAMIC SUBSTRATE
Provided in the present invention is a dynamic sintering method for a nitride ceramic substrate, which belongs to the technical field of ceramic materials. In the present invention, by means of the differences between a support block and a nitride ceramic substrate in the shrinkage starting temperature and the shrinkage rate, the shrinkage starting temperature of the support block is controlled to be lower than or higher than that of the nitride ceramic substrate, and the linear shrinkage rate thereof in a height direction is controlled to be higher than that of the nitride ceramic substrate, such that the dynamic process from non-contact to contact between a pressing plate and the substrate during the sintering process can be achieved; therefore, the deformation and cracking of the substrate during sintering are avoided.
La présente invention concerne un procédé de frittage dynamique pour substrat céramique au nitrure, qui appartient au domaine technique des matériaux céramiques. Dans la présente invention, au moyen des différences entre un bloc de support et un substrat céramique au nitrure dans la température de démarrage de retrait et le taux de retrait, la température de début de retrait du bloc de support est régulée pour être inférieure ou supérieure à celle du substrat céramique au nitrure, et le taux de retrait linéaire de celui-ci dans une direction de hauteur est régulé pour être supérieur à celui du substrat céramique au nitrure, de telle sorte que le processus dynamique de non-contact au contact entre une plaque de pression et le substrat pendant le processus de frittage peut être obtenu ; par conséquent, la déformation et le craquage du substrat pendant le frittage sont évités.
本发明提供了一种氮化物陶瓷基片的动态烧结方法，属于陶瓷材料技术领域。本发明通过利用支撑块和氮化物陶瓷基片开始收缩温度和收缩率的差异，控制支撑块开始收缩温度低于或高于氮化物陶瓷基片且高度方向线收缩率高于氮化物陶瓷基片，能够实现在烧结过程中压板和基片之间从非接触到接触的动态过程，从而避免基片烧结时的变形和开裂。
DYNAMIC SINTERING METHOD FOR NITRIDE CERAMIC SUBSTRATE
PROCÉDÉ DE FRITTAGE DYNAMIQUE POUR SUBSTRAT CÉRAMIQUE AU NITRURE
一种氮化物陶瓷基片的动态烧结方法
SUN FENG (author) / ZHANG JING (author) / ZHANG WEIRU (author) / DONG TINGXIA (author) / WANG ZAIYI (author) / XU XUEMIN (author) / LV PEIYUAN (author) / XU JINMENG (author) / WANG NAIJIAN (author) / WANG MEI (author)
2023-10-05
Patent
Electronic Resource
Chinese
IPC:
C04B
Kalk
,
LIME
/
F27D
Einzelheiten oder Zubehör für Industrieöfen, Schachtöfen, Brennöfen oder Retorten, soweit sie nicht auf eine Ofenart eingeschränkt sind
,
DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
BATCH SINTERING METHOD FOR HIGH-PERFORMANCE SILICON NITRIDE CERAMIC SUBSTRATE
| European Patent Office | 2025
BATCH SINTERING METHOD FOR HIGH-PROPERTY SILICON NITRIDE CERAMIC SUBSTRATE
| European Patent Office | 2024
BATCH SINTERING METHOD FOR HIGH-PERFORMANCE SILICON NITRIDE CERAMIC SUBSTRATE
| European Patent Office | 2022