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    Titel:

    Photoresist-free lithography of 3 m wide UO~3 lines from amorphous films of uranyl complexes

    Beteiligte:

    Goetting, L. B. (Autor:in) / Palmer, B. J. (Autor:in) / Gao, M. (Autor:in) / Hill, R. H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 29 ; 6147

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1994

    Format / Umfang:

    6147 pages

    ISSN:

    0022-2461

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Unbekannt

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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