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    Titel:

    High efficiency photoresist-free lithography of UO~3 patterns from amorphous films of uranyl complexes

    Beteiligte:

    Gao, M. (Autor:in) / Hill, R. H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 13 ; 1379-1389

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1998

    Format / Umfang:

    11 pages

    ISSN:

    0884-2914

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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