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    Titel:

    Influences of water on photoresist surface in immersion lithography technology

    Beteiligte:

    Sado, M. (Autor:in) / Teratani, T. (Autor:in) / Fujii, H. (Autor:in) / Iikawa, R. (Autor:in) / Iida, H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 1018-1021

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2008

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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