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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Plasma assisted oxidation of SiGe layers at 500C: interface characterization

    Beteiligte:

    Tetelin, C. (Autor:in) / Wallart, X. (Autor:in) / Vescan, L. (Autor:in) / Nys, J. P. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 104/105 ; 385-391

    Erscheinungsdatum:

    01.01.1996

    Format / Umfang:

    7 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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