Photochemical vapour deposition of hydrogenated amorphous silicon-carbon thin films by using a Xe^*~2 excimer lamp: Fid-Bau Portal

Photochemical vapour deposition of hydrogenated amorphous silicon-carbon thin films by using a Xe^*~2 excimer lamp

Redondas, X. / Gonzalez, P. / Chiussi, S. / Parada, E. G. / Pou, J. / Leon, B. / Perez-Amor, M.

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Titel:

Photochemical vapour deposition of hydrogenated amorphous silicon-carbon thin films by using a Xe^*~2 excimer lamp

Beteiligte:

Redondas, X. (Autor:in) / Gonzalez, P. (Autor:in) / Chiussi, S. (Autor:in) / Parada, E. G. (Autor:in) / Pou, J. (Autor:in) / Leon, B. (Autor:in) / Perez-Amor, M. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 106 ; 55-59

Erscheinungsdatum:

01.01.1996

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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