Epitaxial growth of Si by low-energy DC-plasma chemical vapor deposition: Fid-Bau Portal

Epitaxial growth of Si by low-energy DC-plasma chemical vapor deposition

Mateeva, E. / Deller, H. R. / Kafader, U. / Rosenblad, C. / Von Kaenel, H. / Dommann, A.

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Titel:

Epitaxial growth of Si by low-energy DC-plasma chemical vapor deposition

Beteiligte:

Mateeva, E. (Autor:in) / Deller, H. R. (Autor:in) / Kafader, U. (Autor:in) / Rosenblad, C. (Autor:in) / Von Kaenel, H. (Autor:in) / Dommann, A. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS ; 17 ; 1545-1548

Erscheinungsdatum:

01.01.1998

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0261-8028

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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