Growth of carbon nitride thin films by radio-frequency-plasma-enhanced chemical vapor deposition at low temperatures: Fid-Bau Portal

Growth of carbon nitride thin films by radio-frequency-plasma-enhanced chemical vapor deposition at low temperatures

Lim, S. F. / Wee, A. T. S. / Lin, J. / Chua, D. H. C. / Tan, K. L.

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Titel:

Growth of carbon nitride thin films by radio-frequency-plasma-enhanced chemical vapor deposition at low temperatures

Beteiligte:

Lim, S. F. (Autor:in) / Wee, A. T. S. (Autor:in) / Lin, J. (Autor:in) / Chua, D. H. C. (Autor:in) / Tan, K. L. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH- ; 14 ; 1153-1159

Erscheinungsdatum:

01.01.1999

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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