Surface of TiO"2 during atomic layer deposition as determined by incremental dielectric reflection: Fid-Bau Portal

Surface of TiO"2 during atomic layer deposition as determined by incremental dielectric reflection

Rosental, A. / Tarre, A. / Adamson, P. / Gerst, A. / Kasikov, A. / Niilisk, A.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Surface of TiO"2 during atomic layer deposition as determined by incremental dielectric reflection

Rosental, A. / Tarre, A. / Adamson, P. / Gerst, A. / Kasikov, A. / Niilisk, A.

Surface of TiO"2 during atomic layer deposition as determined by incremental dielectric reflection

Rosental, A. / Tarre, A. / Adamson, P. / Gerst, A. / Kasikov, A. / Niilisk, A.

Zugriff

Zugriff über TIB

Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen

Bestellung bei Subito €

Seitennavigation

Dokumentinformationen

Ähnliche Titel

Exportieren, teilen und zitieren

Dokumentinformationen

Titel:

Surface of TiO"2 during atomic layer deposition as determined by incremental dielectric reflection

Beteiligte:

Rosental, A. (Autor:in) / Tarre, A. (Autor:in) / Adamson, P. (Autor:in) / Gerst, A. (Autor:in) / Kasikov, A. (Autor:in) / Niilisk, A. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 142 ; 204-209

Erscheinungsdatum:

01.01.1999

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

Rosental, A. / Adamson, P. / Gerst, A. et al. | British Library Online Contents | 1996

Reflection absorption infrared spectroscopy during atomic layer deposition of HfO2 films from tetrakis(ethylmethylamido)hafnium and water

Sperling, B. A. / Kimes, W. A. / Maslar, J. E. | British Library Online Contents | 2010

Atomic layer deposition HfO2 capping layer effect on porous low dielectric constant materials

Cheng, Y. L. / Kao, K. C. / Huang, C. J. et al. | British Library Online Contents | 2015

Atomic layer deposition in traveling-wave reactor: In situ diagnostics by optical reflection

Rosental, A. / Adamson, P. / Gerst, A. et al. | British Library Online Contents | 1997

The formation of a dielectric SiNxCy sealing layer using an atomic layer deposition technique

Kim, Doyoung / Kim, Soo-Hyun / Kim, Hyungjun | British Library Online Contents | 2015

Nach oben