Additive oxygen effects in Cl~2 plasma etching of chrome films: Fid-Bau Portal

Additive oxygen effects in Cl~2 plasma etching of chrome films

Kwon, K.-H. / Kang, S.-Y. / Park, S.-H. / Sung, H.-K. / Kim, D.-K. / Moon, J.-H.

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Titel:

Additive oxygen effects in Cl~2 plasma etching of chrome films

Beteiligte:

Kwon, K.-H. (Autor:in) / Kang, S.-Y. (Autor:in) / Park, S.-H. (Autor:in) / Sung, H.-K. (Autor:in) / Kim, D.-K. (Autor:in) / Moon, J.-H. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS ; 18 ; 1197-1200

Erscheinungsdatum:

01.01.1999

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0261-8028

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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