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Etching of CVD diamond films using oxygen ions in ECR plasma

Ma, Z. / Wu, J. / Shen, W. / Yan, L. / Pan, X. / Wang, J.

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Titel:

Etching of CVD diamond films using oxygen ions in ECR plasma

Beteiligte:

Ma, Z. (Autor:in) / Wu, J. (Autor:in) / Shen, W. (Autor:in) / Yan, L. (Autor:in) / Pan, X. (Autor:in) / Wang, J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 289 ; 533-537

Erscheinungsdatum:

01.01.2014

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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