Clustering of ultra-low-energy implanted boron in silicon during activation annealing: Fid-Bau Portal

Clustering of ultra-low-energy implanted boron in silicon during activation annealing

Schroer, E. / Privitera, V. / Priolo, F. / Napolitani, E. / Carnera, A. / Moffatt, S.

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Titel:

Clustering of ultra-low-energy implanted boron in silicon during activation annealing

Beteiligte:

Schroer, E. (Autor:in) / Privitera, V. (Autor:in) / Priolo, F. (Autor:in) / Napolitani, E. (Autor:in) / Carnera, A. (Autor:in) / Moffatt, S. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -LAUSANNE- B ; 71 ; 219 - 223

Erscheinungsdatum:

01.01.2000

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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