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    Titel:

    Large-hole anode-type fast atom beam (LA-FAB) source and its application to high-aspect-ratio GaAs etching

    Beteiligte:

    Watanabe, K. (Autor:in) / Hatakeyama, M. (Autor:in) / Ichiki, K. (Autor:in) / Satake, T. (Autor:in) / Kato, T. (Autor:in) / Nagai, K. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 169-170 ; 603-606

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2001

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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