Application of high-resolution X-ray diffraction to study strain status in Si1-xGex/Si1-yGey/Si (001) heterostructures: Fid-Bau Portal

Application of high-resolution X-ray diffraction to study strain status in Si1-xGex/Si1-yGey/Si (001) heterostructures

Chtcherbatchev, K. D. / Sequeira, A. D. / Franco, N. / Barradas, N. P. / Myronov, M. / Mironov, O. A. / Parker, E. H.

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Titel:

Application of high-resolution X-ray diffraction to study strain status in Si1-xGex/Si1-yGey/Si (001) heterostructures

Beteiligte:

Chtcherbatchev, K. D. (Autor:in) / Sequeira, A. D. (Autor:in) / Franco, N. (Autor:in) / Barradas, N. P. (Autor:in) / Myronov, M. (Autor:in) / Mironov, O. A. (Autor:in) / Parker, E. H. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B -LAUSANNE- ; 91-92 ; 453 - 456

Erscheinungsdatum:

01.01.2002

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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