SIMS round-robin study of depth profiling of arsenic implants in silicon: Fid-Bau Portal

SIMS round-robin study of depth profiling of arsenic implants in silicon

Tomita, M. / Hasegawa, T. / Hashimoto, S. / Hayashi, S. / Homma, Y. / Kakehashi, S. / Kazama, Y. / Koezuka, K. / Kuroki, H. / Kusama, K.

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Titel:

SIMS round-robin study of depth profiling of arsenic implants in silicon

Beteiligte:

Tomita, M. (Autor:in) / Hasegawa, T. (Autor:in) / Hashimoto, S. (Autor:in) / Hayashi, S. (Autor:in) / Homma, Y. (Autor:in) / Kakehashi, S. (Autor:in) / Kazama, Y. (Autor:in) / Koezuka, K. (Autor:in) / Kuroki, H. (Autor:in) / Kusama, K. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 203-204 ; 465-469

Erscheinungsdatum:

01.01.2003

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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