Depth profiles of boron and nitrogen in SiON films by backside SIMS: Fid-Bau Portal

Depth profiles of boron and nitrogen in SiON films by backside SIMS

Sameshima, J. / Maeda, R. / Yamada, K. / Karen, A. / Yamada, S.

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Titel:

Depth profiles of boron and nitrogen in SiON films by backside SIMS

Beteiligte:

Sameshima, J. (Autor:in) / Maeda, R. (Autor:in) / Yamada, K. (Autor:in) / Karen, A. (Autor:in) / Yamada, S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 231/232 ; 614-617

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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