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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Study on change in SIMS intensities near the interface between silicon-nitride film and silicon substrate

    Beteiligte:

    Hasegawa, T. (Autor:in) / Date, T. (Autor:in) / Karen, A. (Autor:in) / Masuda, A. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 231/232 ; 725-728

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2004

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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