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    Titel:

    Effect of Heat Treatment on TiN Diffusion Barriers in Copper Thin Film Metallization on PI Substrates

    Beteiligte:

    Yangqiu, L. (Autor:in) / Tongxiang, L. (Autor:in) / Zhiqiang, F. (Autor:in)

    Erschienen in:

    RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERING ; 33 ; 662-665

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2004

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    1002-185X

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Unbekannt

    Klassifikation:

    DDC:  669

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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