Chemical mechanical polishing (CMP) anisotropy in sapphire: Fid-Bau Portal

Chemical mechanical polishing (CMP) anisotropy in sapphire

Zhu, H. / Tessaroto, L. A. / Sabia, R. / Greenhut, V. A. / Smith, M. / Niesz, D. E.

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Titel:

Chemical mechanical polishing (CMP) anisotropy in sapphire

Beteiligte:

Zhu, H. (Autor:in) / Tessaroto, L. A. (Autor:in) / Sabia, R. (Autor:in) / Greenhut, V. A. (Autor:in) / Smith, M. (Autor:in) / Niesz, D. E. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 236 ; 120-130

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

11 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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