Effect of as-deposited residual stress on transition temperatures of VO~2 thin films: Fid-Bau Portal

Effect of as-deposited residual stress on transition temperatures of VO~2 thin films

Tsai, K. Y. / Chin, T.-S. / Shieh, H.-P. D. / Ma, C. H.

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Titel:

Effect of as-deposited residual stress on transition temperatures of VO~2 thin films

Beteiligte:

Tsai, K. Y. (Autor:in) / Chin, T.-S. (Autor:in) / Shieh, H.-P. D. (Autor:in) / Ma, C. H. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH THEN WARRENDALE- ; 19 ; 2306-2314

Erscheinungsdatum:

01.01.2004

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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