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    Titel:

    FT IR spectroscopy of silicon oxide and HfSiO"x layer formation

    Beteiligte:

    Kopani, M. (Autor:in) / Mikula, M. (Autor:in) / Pincik, E. (Autor:in) / Kobayashi, H. (Autor:in) / Takahashi, M. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 313 ; 117-119

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2014

    Format / Umfang:

    3 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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